物理学进展
反铁电薄膜材料体系、研究现状及应用展望
马行健, 黄新苗, 李伟伟
Antiferroelectric thin film materials: research status and application prospects 
MA Xingjian , HUANG Xinmiao , LI Weiwei
物理学进展 . 2026, (4): 174 -201 .  DOI: 10.13725/j.cnki.pip.2026.04.002